模具抛光 的核心目标之一是保证平整度，那具体该如何把控呢？
首先，是初抛环节，抛光前需确保模具基材无沙眼、划痕等缺陷，选用粒度均匀的砂轮进行粗磨，模具抛光 时采用交叉打磨方式，避免单一方向打磨导致的平面倾斜，同时控制打磨力度，防止局部受力过大造成基材变形。
其次，进入中抛阶段，模具抛光 的工具选择与操作手法直接影响平整度。需循序渐进更换更细粒度的油石、砂纸，每更换一次工具都要调整打磨方向，与上一阶段呈90度角，确保模具表面受力均匀。模具抛光 时需配合专用的抛光液，减少工具与模具的摩擦阻力，避免温度过高导致的表面凹凸，同时，要不定时检测平面误差，及时修正偏差。
最后，精抛是把控平整度的关键环节。模具抛光 需选用适配的抛光膏，采用螺旋式轻压抛光手法，重点处理边角与平面衔接处，避免出现高低差。抛光过程中需定期清洁模具表面，防止研磨碎屑残留影响平整度检测结果。
总之，模具抛光 平整度把控，核心在于循序渐进、受力均匀与实时检测。从粗磨到精抛，工具、手法与检测环环相扣，既要避免局部损伤，又要及时修正偏差，方能让模具抛光后的平面符合精度要求，保障生产稳定性。
